產品特色

● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統內

● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式

● 高精度、高再現性量測紫外到近紅外波段內的絕對反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率、k：消光系數）

● 單點對焦加量測在1秒內完成

● 顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外 ~ 近紅外）

● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求

● 最小對應spot約3μm

● 可針對超薄膜解析nk

量測項目

●絕對反射率分析

●多層膜解析（50層）

●光學常數（n：折射率、k：消光系數）

膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內部反射，即使是透明基板也可以實現高精度測量。此外，對具有光學異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨測量上面的膜。

（zhuanli編號    第 5172203 號）

應用范圍

● 半導體、復合半導體：硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）

● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學材料：濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等

規格式樣

（自動XY平臺型）

OPTM 選型

自動XY平臺型

固定框架型

嵌入頭型

波長與膜厚范圍

選型表

物鏡

量測案例

半導體行業 – SiO2、SiN膜厚測定案例

半導體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時的阻斷保護，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時，為了精確的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。

FPD行業 – 彩色光阻膜厚測定

彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個玻璃表面，通過光刻進行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。

彩色光阻的厚度不恒定是導致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對彩色光阻的膜厚管理非常重要。

FPD行業 – 用傾斜模式解析ITO構造

ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經過退火處理(熱處理)提升導電性和透光性。此時，氧狀態和結晶性發生變化，使得膜厚產生階段性的傾斜變化。在光學上不能看作是構成均一的單層膜。

對這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，對傾斜程度進行測量。

半導體行業 – 使用界面系數測定粗糙基板上的膜厚

如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測量光降低且測量的反射率低于實際值。

通過使用界面系數，因為考慮到了基板表面上的反射率的降低，可以測量出基板上薄膜的膜厚值。

DLC涂層行業 – 各種用途DLC涂層厚度的測量

DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。

采用顯微光學系統，可以測量有形狀的樣品。此外，監視器一邊確認檢查測量位置一邊進行測量的方式，可以用于分析異常原因。